10月10日消息，俄罗斯国际新闻通讯社报道，圣彼得堡理工大学的研究人员开发出一种名为”国产光刻复合体”的划时代技术，可用于生产无掩模芯片，解决了俄罗斯在微电子领域的技术主权问题。
据悉，这种国产光刻复合体被赋予了超越传统光刻技术的使命，不再需要专门的掩膜板来获取图像，完全实现了自动化操作。该技术采用专业软件控制，能够形成纳米结构，也可用于制作硅膜，例如舰载超压传感器。
不久前，俄罗斯科学院下诺夫哥罗德应用物理研究所就曾发表声明表示将开展相关工作，因此，圣彼得堡理工大学成功开发出国产光刻复合体并非偶然。俄罗斯大诺夫哥罗德策略发展机构雄心勃勃地宣布，旗下应用物理研究所将在2028年开发出能生产7纳米芯片的光刻机，并可与ASML等同类产品展开竞争。
虽然该国产光刻复合体成本为500万卢布（约36.3万元人民币），另一款的成本尚不明确，然而，这种技术的突破无疑将对光刻机行业产生重要影响。
目前，全球芯片市场有着极高的需求，而光刻机作为芯片制造的关键设备，一直由ASML等外国厂商垄断。然而，俄罗斯的技术突破将打破这一局面，为俄罗斯赢得在微电子领域的技术主权提供宝贵支持。
值得一提的是，光刻机技术的突破也对俄罗斯整个微电子产业有着积极意义。而俄罗斯政府也对这一技术突破高度关注，表示将加大对科研机构和工程技术人才的支持力度，推动国产光刻复合体的产业化发展。
此次俄罗斯的技术突破不仅令ASML等传统光刻机厂商感到吃惊，更意味着俄罗斯在微电子领域的地位和竞争力将得到大幅提升。
总的来说，俄罗斯国产光刻复合体的成功开发，填补了该国在微电子领域的技术空白，为其在全球竞争中赢得一席之地奠定了基础。这一划时代技术的突破将推动俄罗斯微电子产业的快速发展，改变国际光刻机行业的格局。
