英特尔率先运用极紫外光刻技术大规模生产4纳米制程产品


IT科技领域再度出现重大事件,国际大歌英特尔近日正式对外发布,将大规模采用极紫外光刻(EUV)技术生产即将更新款的Intel 4制程节点,这无疑为科技产业树立了新的里程碑。此次英特尔公众号官方宣告,制程节点的产量放大,将涉及英特尔未来用于新一代产品的主力生产线。英特尔公司积极推进“四年五个制程节点”计划,此次的技术更新,标志着制程技术传递的速度远超往常。

至于这个名叫Intel 4的制程节点,按照英特尔的官方介绍,这是英特尔首次在制程节点生产中引进EUV技术,这无疑在性能、能效和晶体管密度等方面实现了显著的提高。而其意义也不只是这些,引入EUV技术将极大提高在AI、先进移动网络、自动驾驶以及新型数据中心和云应用等领域的算力需求。可以说,这次的改动,不但是技术的飞跃,更推动了科技发展的步伐。

在此前的制程产量中,已经有Intel 7和Intel 4实现了大规模量产,另外,Intel 3也正在有序推进,目标是在2023年底量产。就技术方面而言,RibbonFET全环绕栅极晶体管和PowerVia背面供电技术的Intel 20A和Intel 18A保持着”无忧”的进展,预计在2024年有望投入使用。另外,产品代号Meteor Lake的英特尔酷睿Ultra处理器预计在今年12月14日发布,将会采用Intel 4制程节点。

此外,将被推到明年上半年的英特尔至强处理器Sierra Forest,提供了高能效的能效核心(E-core),与此同时,采用了Intel 3制程节点的英特尔至强处理器Granite Rapids,也将在明年上半年推出。它将紧随Sierra Forest的脚步,首次引用高性能的性能核心(P-core),给所有用户带来更强的性能体验。

可以肯定,在未来的科技领域,承载英特尔Intel 4制程节点的新产品将以其优越的性能和能效,引领行业新的潮流。同时以英特尔公司对全新制程节点技术的积极探索和实践,将对整个行业的发展产生积极推动作用,尤其是对高性能应用的推动,无疑是无可替代的。英特尔此次的改进,无论对于公司还是行业都是一个重大的突破。

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